這項殊榮不僅是對陳教授在奈米製造領域傑出貢獻的高度認可，更是對超奈科技核心技術路線的強有力驗證。

突破性研究項目引領行業前沿

陳世祈教授此次獲獎的研究項目「閉環高通量超解析度雙光子光刻技術」，直擊奈米製造領域的核心挑戰。製造出奈米級的任意三維結構，一直是奈米技術領域長久以來追求的目標。該項目將通過雙光子光刻（TPL）技術，系統性解決超高解析度光聚合製程中的三大關鍵挑戰：速率、解析度和可重複性。

光聚合作為3D列印的重要技術，能夠通過光照將液態材料轉化為固態。陳教授的研究將首次賦予TPL技術多項革新功能，包括光學元件的修復和改造，從而推動TPL技術實現真正的大規模應用。這一突破性成果將全面超越目前所有基於高解析度光聚合的3D列印解決方案，對整個奈米製造和奈米技術產業產生重大而深遠的影響。

左一：陳世祈教授

超奈科技：將前沿理論轉化為產業實踐

作為3D奈米列印領域的創新企業，超奈科技始終致力於將陳教授的前沿研究成果轉化為實際應用。我們採用的雙光子技術結合飛秒投影技術，正是基於陳教授在超解析度雙光子光刻方面的深厚學術積累和技術創新。

這項技術能夠實現前所未有的奈米級精度3D結構製造，在生物醫學器件、光電子元件、微機械系統、精密光學器件等高階應用領域具有巨大的產業化潛力。

權威認可彰顯技術價值

研資局高級研究學者計劃的競爭極為激烈，陳教授能夠從眾多優秀學者中脫穎而出，充分證明了其研究的原創性、前瞻性和重要性。該項目將獲得約820萬港元的研究資助，為期60個月，這不僅為持續的技術創新提供了有力保障，也為超奈科技未來的發展注入了強勁動力。

香港中文大學副校長岑美霞教授對獲獎學者給予高度評價，認為這不僅是對他們傑出研究貢獻的肯定，更彰顯了中大在科學領域的卓越研究實力。作為陳教授研究成果的重要承載者，超奈科技有幸成為這一學術成就向產業轉化的重要平台。

展望未來：技術創新與產業發展並進

站在這一重要里程碑上，超奈科技將繼續在陳教授的引領下，深化產學研一體化合作模式。我們將充分利用這一研究平台，加速核心技術的疊代升級，推動3D奈米列印技術在更多應用場景中的落地實踐。

隨著陳教授研究項目的深入推進，超奈科技有望在奈米製造精度、生產效率、工藝穩定性等關鍵指標上實現新的突破，為客戶提供更加優質的奈米級3D列印解決方案，為推動整個奈米製造產業的發展貢獻更大力量。

讓我們再次熱烈祝賀陳世祈教授獲得這一崇高榮譽！超奈科技將以此為新起點，在奈米製造的道路上勇攀高峰，創造更多令人矚目的成果！