UV SCAN 100 手套箱兼容激光直写系统
系统可用于微纳结构的高精度图形加工，实现亚微米级分辨率与高精度定位能力。兼具大面积图形加工能力与亚微米级精度保证。应用于微型显示芯片等光电器件的研发，以及钙钛矿等氛围敏感材料的测试场景，其超紧凑体积可实现手套箱恒定氛围内使用。
系统可用于微纳结构的高精度图形加工，实现亚微米级分辨率与高精度定位能力。兼具大面积图形加工能力与亚微米级精度保证。应用于微型显示芯片等光电器件的研发，以及钙钛矿等氛围敏感材料的测试场景，其超紧凑体积可实现手套箱恒定氛围内使用。
通过专用软件完成微纳结构设计，系统自动将图形数据转换为控制指令，简化打印流程。
紫外激光束经声光调制器和高精度振镜系统协同调制，通过高数值孔径(NA)物镜精准聚焦至光刻胶表面，确保曝光质量。
激光束沿预设路径执行高速、高精度的逐点扫描曝光，实现亚微米级分辨率的稳定控制。
设备体积小巧，可灵活置入手套箱内，在恒定氛围环境中稳定运行，满足钙钛矿等氛围敏感材料的研发与测试需求。
顶尖硬件配置 高度国产化：采用国产高性能光学器件与自主研发高精度光学系统，配合纳米级精密运动平台，奠定卓越精度基础。
极致精度指标：最小线宽可达 0.25 μm ，接近物理衍射极限。
无掩模数字化流程：无需制作昂贵的物理掩模版，设计修改仅需更新数字文件。
快速原型验证：无论是复杂电路还是精细微纳结构，均可灵活适配，实现从概念设计到原型样本的快速转化，显著缩短研发周期、降低研发成本。
高效参数筛选：支持梯度功率与焦点偏移曝光参数阵列，一次曝光即可快速锁定最佳工艺参数。
一键式自动化流程：集成一键上样、自动对焦、自动对准和自动曝光等功能，显著提升打印效率，降低维护成本。
人性化交互界面：操作逻辑清晰直观，降低学习成本。
UV SCAN 100 具备极高的分辨率与制造效率，以下是其关键性能参数与适用领域。
| 应用 | 双光子聚合平台打印技术 |
|---|---|
| 最小特征尺寸XY | 250 nm |
| 最小等间距线栅 | 560 nm |
| 打印速率 | 18 mm²/h |
| 曝光面积 | ≥ 0.25 mm² x 0.25 mm² （单次加工范围，支持拼接实现更大图形） |
| 相邻曝光区域拼接误差 | ≤ 150 nm |
| 样品台XY双向重复定位精度 | ≤ 120 nm |
| 最小移动步距 | ≤ 50 nm |
| 打印范围(XY) | 48 x 48 mm² |
| 基底类型 | 载玻片/圆晶片 |
| 基片厚度 | 0 - 4.5 mm |
| 样品尺寸 | 5 x 5 mm² to 48 x 48 mm² (可按需求定制) |
| 隔振(可选) | 平台尺寸 ≥ 400 x 30 mm; 带宽1~200 Hz 效率 >90% @ 5 Hz，90%~99% @10 Hz |
| 光源 | 405 nm |
| 长 x 宽 x 高 (仅限光刻单元) | 463 x 160 x 535 mm³ |
| 重量 (仅限光刻单元) | 12 kg（背包级） |
| 供电 | 230 VAC ±5 %, 50/60 Hz, 16 A |
适用于量子点、功能薄膜、微电极及微纳光电器件样品的高分辨图形化加工。
适用于衍射光学元件（DOE）、周期/非周期微结构、功能表面纹理及微光学原型的高精度制备。
面向高校、科研院所及企业研发部门，支持微纳结构样品的快速制备、参数优化与实验验证。
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