10月30日，國家重點研發計劃顛覆性技術創新重點專項安徽聯合項目啟動儀式暨顛覆性創新項目路演活動在合肥舉行。在啟動儀式上，超奈科技在內的三家企業獲顛覆性技術創新重點專項安徽聯合項目首批立項授牌。
01 首獲國家專項支持
國家重點研發計劃是我國國家科技計劃體系的重要組成部分，聚焦事關產業核心競爭力、整體自主創新能力和國家安全的關鍵核心技術攻關，從源頭破解一批「卡脖子」難題，是我國實施創新驅動發展戰略的核心載體。顛覆性技術創新重點專項是國家重點研發計劃下屬極具特色的探索型培育專項，通過「探索-前沿-工程-產業」的全梯度佈局，覆蓋集成電路、科學儀器、先進製造等硬科技核心領域，從極早期原理驗證到產業化落地全程培育顛覆性技術「新品種」。
超奈科技獲頒國家重點研發計劃顛覆性技術創新重點專項首批立項授牌
本次顛覆性技術創新重點專項安徽聯合項目的首批立項授牌，是對超奈科技在雙光子光刻領域的創新能力和技術實力的充分肯定，也為超奈科技進一步深耕高速雙光子光刻技術，擴展微納光學產業應用提供了助力。
02 聚焦顛覆性創新 突破先進製造邊界
隨著光計算芯片、光通信、微納光學及先進封裝等領域的快速發展，市場對亞百納米級複雜三維光學結構的製造需求越來越迫切。傳統加工技術處理複雜三維結構，依然受限於效率低、工藝繁瑣等問題。超奈科技聚焦雙光子光刻的技術瓶頸，採用飛秒激光時空聚焦技術，將傳統的「逐點串行加工」直接升級為「並行曝光」，讓複雜三維微納結構真正走向高效成型。拼的不只是加工速度，更是雙光子3D打印的範式創新。本項目將率先進行超高速雙光子光刻系統的技術驗證，並在光計算、先進封裝及微納光學等前沿領域落地應用。
點掃 vs. 面投影
結語
此次是超奈科技首次獲得國家級項目支持，也是公司發展歷程中的一個關鍵節點。
未來，超奈科技以此為契機，繼續打磨核心設備與工藝技術，把前沿技術推向高端微納光學器件製造，實現高端微納製造裝備的自主可控。
