国家级项目新突破｜超奈科技获颠覆性技术创新重点专项首批立项授牌

10月30日，国家重点研发计划颠覆性技术创新重点专项安徽联合项目启动仪式暨颠覆性创新项目路演活动在合肥举行。在启动仪式上，超奈科技在内的三家企业获颠覆性技术创新重点专项安徽联合项目首批立项授牌。

01 首获国家专项支持

国家重点研发计划是我国国家科技计划体系的重要组成部分，聚焦事关产业核心竞争力、整体自主创新能力和国家安全的关键核心技术攻关，从源头破解一批“卡脖子”难题，是我国实施创新驱动发展战略的核心载体‌。颠覆性技术创新重点专项是国家重点研发计划下属极具特色的探索型培育专项，通过“探索-前沿-工程-产业”的全梯度布局，覆盖集成电路、科学仪器、先进制造等硬科技核心领域，从极早期原理验证到产业化落地全程培育颠覆性技术“新物种”。

超奈科技获颁国家重点研发计划颠覆性技术创新重点专项首批立项授牌

‌本次颠覆性技术创新重点专项安徽联合项目的首批立项授牌，是对超奈科技在双光子光刻领域的创新能力和技术实力的充分肯定，也为超奈科技进一步深耕高速双光子光刻技术，扩展微纳光学产业应用提供了助力。

02 聚焦颠覆性创新突破先进制造边界

随着光计算芯片、光通信、微纳光学及先进封装等领域的快速发展，市场对亚百纳米级复杂三维光学结构的制造需求越来越迫切。传统加工技术处理复杂三维结构，依然受限于效率低、工艺繁琐等问题。

超奈科技聚焦双光子光刻的技术瓶颈，采用飞秒激光时空聚焦技术，将传统的“逐点串行加工”直接升级为“并行曝光”，让复杂三维微纳结构真正走向高效成型。拼的不只是加工速度，更是双光子3D打印的范式创新。本项目将率先进行超高速双光子光刻系统的技术验证，并在光计算、先进封装及微纳光学等前沿领域落地应用。